中華網财經(jīng)7月29日訊，南大光電發(fā)布公告稱，公司承擔的國(guó)家科技重大專項（02專項）“極大規模集成(chéng)電路制造裝備及成(chéng)套工藝”之“先進(jìn)光刻膠産品開(kāi)發(fā)與産業化”項目，今日收到項目綜合績效評價結論書，項目通過(guò)了專家組驗收。

南大光電表示，ArF光刻膠材料是集成(chéng)電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成(chéng)電路制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯片、5G芯片和雲計算芯片等）。

長(cháng)期以來，國(guó)内高端光刻膠市場長(cháng)期爲國(guó)外巨頭所壟斷，對(duì)我國(guó)芯片制造具有“卡脖子”風險。盡快實現先進(jìn)光刻膠材料的全面(miàn)國(guó)産化和産業化具有十分重要的戰略意義和經(jīng)濟價值。本項目研發(fā)任務的圓滿完成(chéng)，預計將(jiāng)對(duì)公司光刻膠事(shì)業的未來發(fā)展産生積極影響。

要注意的是，公司目前的ArF光刻膠産品尚未實現規模化量産。ArF光刻膠的複雜性決定了其在穩定量産階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還(hái)需要在應用中進(jìn)行工藝的改進(jìn)、完善。同時，ArF光刻膠産品國(guó)産化替代受品質、客戶的嚴格要求，後(hòu)續是否能(néng)取得下遊客戶的大批量訂單，能(néng)否大規模進(jìn)入市場仍存在較多的不确定性。這(zhè)些都(dōu)會影響ArF光刻膠的量産規模和經(jīng)濟效益。敬請廣大投資者注意投資風險。

資料顯示，南大光電是主要從事(shì)先進(jìn)前驅體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三類半導體材料産品生産、研發(fā)和銷售的高新技術企業。

值得一提的是，光刻膠及配套材料是光刻工藝中的關鍵材料，主要應用于集成(chéng)電路和半導體分立器件的細微圖形加工。高端光刻膠是集成(chéng)電路實現28nm、14nm乃至10nm以下制程的關鍵。

長(cháng)期以來，全球高端光刻膠市場被(bèi)以日本合成(chéng)橡膠、東京應化、信越化學(xué)、富士電子材料等爲代表的國(guó)外技術壟斷。

而在我國(guó)，高端光刻膠領域仍有大量品種(zhǒng)短缺或空白，因此，高端光刻膠技術成(chéng)爲了我國(guó)芯片制造的“卡脖子”難題，相關領域進(jìn)口替代需求緊迫。

光刻工序是集成(chéng)電路制造中重要的一環，是將(jiāng)設計好(hǎo)的集成(chéng)電路圖形由掩膜版轉移至矽片後(hòu)再進(jìn)行下一步刻蝕的工藝，是集成(chéng)電路制造中耗時大、難度高的工藝。光刻時會在矽片上塗一層光刻膠，經(jīng)紫外線曝光後(hòu)，光刻膠化學(xué)性質發(fā)生變化，再經(jīng)顯影後(hòu)將(jiāng)曝光的光刻膠去除，實現圖形從掩膜版到矽片的轉移。光刻膠作爲光刻環節的重要耗材，其質量和性能(néng)直接影響集成(chéng)電路制造産線良率，是集成(chéng)電路制造的核心材料之一。

按照應用領域的不同，光刻膠又可以分爲印刷電路闆（PCB）用光刻膠、液晶顯示（LCD）用光刻膠、半導體用光刻膠和其他用途光刻膠。PCB光刻膠和LCD光刻膠技術壁壘相對(duì)較低，國(guó)産化率較高，而半導江蘇南大光電材料股份有限公司2020年年度報告摘要5體光刻膠代表著(zhe)光刻膠技術先進(jìn)水平，尤其是高端光刻膠，目前國(guó)内公司量産層面(miàn)近乎空白。

我國(guó)企業也在積極研發(fā)高端光刻膠産品，以打破國(guó)外壟斷，實現光刻膠的進(jìn)口替代。國(guó)内從事(shì)高端光刻膠研發(fā)和生産的公司主要有南大光電、上海新陽、晶瑞股份、北京科華等。

近期，我們可以看到，A股的光刻膠闆塊備受資金追捧，截至7月29日收盤，光刻膠闆塊當天更是大漲，南大光電、容大感光等個股漲停，更有多支個股漲超10%。自5月27日以來，南大光電兩(liǎng)個月漲幅近150%，可謂是“潇灑”。